> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: E-Artikel Titel: High pressure oxidation of Si(100) for production of ultrathin oxide metal-insulator-semiconductor diodes Beteiligte: Basu, Nandita; Bhat, K.N. Erschienen: Elsevier BV, 1988 Erschienen in: Thin Solid Films Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0040-6090(88)90318-5 ISSN: 0040-6090 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Metals and Alloys ; Surfaces, Coatings and Films ; Surfaces and Interfaces ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: