> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: E-Artikel Titel: The structure and electromigration behaviour of aluminium films deposited by the partially ionized beam technique Beteiligte: Fionova, L.K.; Kononenko, O.V.; Matveev, V.N. Erschienen: Elsevier BV, 1993 Erschienen in: Thin Solid Films, 227 (1993) 1, Seite 54-58 Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0040-6090(93)90186-s ISSN: 0040-6090 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Metals and Alloys ; Surfaces, Coatings and Films ; Surfaces and Interfaces ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: