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Medientyp: E-Artikel Titel: Plasma etching in semiconductor fabrication Beteiligte: L Hitchman, Michael Erschienen: Elsevier BV, 1986 Erschienen in: Vacuum, 36 (1986) 5, Seite 293 Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0042-207x(86)90610-x ISSN: 0042-207X Schlagwörter: Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Instrumentation Entstehung: Hochschulschrift: Anmerkungen: