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Medientyp: E-Artikel Titel: Refractory metal silicides with applications to sub-micron CMOS processes Beteiligte: Stogdale, N.F.; Barlow, K.J. Erschienen: Elsevier BV, 1989 Erschienen in: Applied Surface Science Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0169-4332(89)90568-0 ISSN: 0169-4332 Schlagwörter: Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Surfaces and Interfaces ; General Physics and Astronomy ; General Chemistry Entstehung: Anmerkungen: