> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: E-Artikel Titel: High precision mask fabrication for deep X-ray lithography using 40-kV shaped electron beam lithography Beteiligte: Schmidt, Andreas; Himmelsbach, Gerhard; Lüttge, Regina; Adam, Dieter; Hoke, Falk; Schacke, Hartmut; Belic, Nicola; Hartmann, Hans; Burkhard, Frank; Wolf, Hermann Erschienen: Elsevier BV, 2001 Erschienen in: Microelectronic Engineering Sprache: Englisch DOI: 10.1016/s0167-9317(01)00479-8 ISSN: 0167-9317 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Atomic and Molecular Physics, and Optics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: