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Medientyp: E-Artikel Titel: Design of Photoresists with Reduced Environmental Impact. 1. Water-Soluble Resists Based on Photo-Cross-Linking of Poly(vinyl alcohol) Beteiligte: Havard, Jennifer M.; Shim, Sang-Yeon; Fréchet, Jean M. J.; Lin, Qinghuang; Medeiros, David R.; Willson, C. Grant; Byers, Jeffrey D. Erschienen: American Chemical Society (ACS), 1999 Erschienen in: Chemistry of Materials Sprache: Englisch DOI: 10.1021/cm980603y ISSN: 0897-4756; 1520-5002 Entstehung: Anmerkungen: