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Medientyp: E-Artikel Titel: The Etch Resistance of Electron Beam Resists in Chemical Dry Etching System Using Microwave Excitation Beteiligte: Jinno, Kiyokatsu Erschienen: IOP Publishing, 1978 Erschienen in: Japanese Journal of Applied Physics Sprache: Englisch DOI: 10.1143/jjap.17.1283 ISSN: 0021-4922; 1347-4065 Schlagwörter: General Physics and Astronomy ; Physics and Astronomy (miscellaneous) ; General Engineering Entstehung: Anmerkungen: