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Medientyp: E-Artikel Titel: Comparison of Electrical and Structural Properties of HfO2 Thin Films on Strained and Relaxed Si1-xGex Beteiligte: Park, Tae Joo; Kim, Jeonghwan; Jang, Jaehyuck; Hwang, Cheol Seong Erschienen: The Electrochemical Society, 2006 Erschienen in: ECS Meeting Abstracts, MA2006-02 (2006) 31, Seite 1524-1524 Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1149/ma2006-02/31/1524 ISSN: 2151-2043 Schlagwörter: General Medicine Entstehung: Anmerkungen: Beschreibung: Abstract not Available. Zugangsstatus: Freier Zugang