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Medientyp: E-Artikel Titel: Thin silicide development for fully-depleted SOI CMOS technology Beteiligte: Liu, H.I.; Burns, J.A.; Keast, C.L.; Wyatt, P.W. Erschienen: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 1998 Erschienen in: IEEE Transactions on Electron Devices Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1109/16.669543 ISSN: 0018-9383 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: