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Medientyp: E-Artikel Titel: Technology review and assessment of nanoimprint lithography for semiconductor and patterned media manufacturing Beteiligte: Malloy, Matt Erschienen: SPIE-Intl Soc Optical Eng, 2011 Erschienen in: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, 10 (2011) 3, Seite 032001 Sprache: Englisch DOI: 10.1117/1.3642641 ISSN: 1932-5150 Entstehung: Anmerkungen: