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Medientyp: E-Artikel Titel: Intensity and phase fields behind phase-shifting masks studied with high-resolution interference microscopy Beteiligte: Puthankovilakam, Krishnaparvathy; Scharf, Toralf; Kim, Myun Sik; Naqavi, Ali; Herzig, Hans Peter; Weichelt, Tina; Zeitner, Uwe; Vogler, Uwe; Voelkel, Reinhard Erschienen: SPIE-Intl Soc Optical Eng, 2016 Erschienen in: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Sprache: Englisch DOI: 10.1117/1.jmm.15.2.021203 ISSN: 1932-5150 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Mechanical Engineering ; Condensed Matter Physics ; Atomic and Molecular Physics, and Optics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: