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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: New models for the simulation of post-exposure bake of chemically amplifed resists Beteiligte: Matiut, Daniela; Erdmann, Andreas; Tollkuehn, Bernd; Semmler, Armin Erschienen: SPIE, 2003 Erschienen in: Advances in Resist Technology and Processing XX (2003) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.485080 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: