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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Pellicle choice for 193-nm immersion lithography photomasks Beteiligte: Cotte, Eric P.; Haessler, Ruediger; Utess, Benno; Antesberger, Gunter; Kromer, Frank; Teuber, Silvio Erschienen: SPIE, 2004 Erschienen in: SPIE Proceedings (2004) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.569280 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: