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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Understanding the photoresist surface-liquid interface for ArF immersion lithography Beteiligte: Conley, Will; LeSuer, Robert J.; Fan, Frank F.; Bard, Allen J.; Taylor, Chris; Tsiartas, Pavlos; Willson, Grant; Romano, Andrew; Dammel, Ralph Erschienen: SPIE, 2005 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.601482 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: