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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Study of stress birefringence for 193-nm immersion photomasks Beteiligte: Cotte, Eric; Selle, Michael; Bubke, Karsten; Teuber, Silvio Erschienen: SPIE, 2005 Erschienen in: SPIE Proceedings (2005) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.617034 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: