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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Versatility in lithographic performance of advanced 193 nm contact hole resist Beteiligte: Kudo, Takanori; Lin, Guanyang; Lee, Dongkwan; Rahman, Dalil; Timko, Allen; Mckenzie, Douglas; Anyadiegwu, Clement; Chiu, Simon; Houlihan, Frank; Rentkiewicz, David; Dammel, Ralph R.; Padmanaban, Munirathna; Biafore, John Erschienen: SPIE, 2006 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.659439 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: