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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: The influence of line edge roughness and CD uniformity on EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks Beteiligte: Scholze, Frank; Laubis, Christian; Dersch, Uwe; Pomplun, Jan; Burger, Sven; Schmidt, Frank Erschienen: SPIE, 2007 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.726159 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: