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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Extending photo-patternable low-κ concept to 193nm lithography and e-beam lithography Beteiligte: Lin, Qinghuang; Nelson, A.; Bozano, L.; Brock, P.; Cohen, S.; Davis, B.; Kwong, R.; Liniger, E.; Neumayer, D.; Rathore, J. S.; Shobha, H.; Sooriyakumaran, R.; Purushothaman, S.; Miller, R.; Allen, R.; Spooner, T.; Wisnieff, R. Erschienen: SPIE, 2011 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.881571 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: