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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Novolak Design For High Resolution Positive Photoresists Beteiligte: Hanabata, M.; Furuta, A.; Uemura, Y. Erschienen: SPIE, 1987 Erschienen in: SPIE Proceedings, 771 (1987), Seite 85 Umfang: 85 Sprache: Ohne Angabe DOI: 10.1117/12.940312 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: