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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Novolak Design For High Resolution Positive Photoresists(II): Stone Wall Model For Positive Photoresist Development Beteiligte: Hanabata, M.; Uetani, Y.; Furuta, A. Erschienen: SPIE, 1988 Erschienen in: SPIE Proceedings, 920 (1988), Seite 349 Umfang: 349 Sprache: Ohne Angabe DOI: 10.1117/12.968335 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: