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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Water-soluble resist for environmentally friendly lithography Beteiligte: Lin, Qinghuang; Simpson, Logan L.; Steinhaeusler, Thomas; Wilder, Michelle; Willson, C. Grant; Havard, Jennifer M.; Frechet, Jean M. J. Erschienen: SPIE, 1996 Erschienen in: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.240092 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: