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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Materials screening for attenuating embedded phase-shift photoblanks for DUV and 193-nm photolithography Beteiligte: Carcia, Peter F.; French, Roger H.; Sharp, Kenneth G.; Meth, Jeff S.; Smith, Bruce W. Erschienen: SPIE, 1996 Erschienen in: SPIE Proceedings Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.262809 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: