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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Effects of underlayer on performance of bilayer resists for 248-nm lithography Beteiligte: Babich, Katherina; Callegari, Alessandro; Petrillo, Karen E.; Simons, John P.; LaTulipe, Douglas C.; Angelopoulos, Marie; Lin, Qinghuang Erschienen: SPIE, 1998 Erschienen in: SPIE Proceedings (1998) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.312348 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: