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Medientyp: E-Artikel Titel: 193 nm Immersion Lithography-Taking the Plunge Beteiligte: Dammel, Ralph; Houlihan, Frank M.; Sakamuri, Raj; Rentkiewicz, David; Romano, Andrew Erschienen: Technical Association of Photopolymers, Japan, 2004 Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology Sprache: Englisch DOI: 10.2494/photopolymer.17.587 ISSN: 0914-9244; 1349-6336 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Organic Chemistry ; Polymers and Plastics Entstehung: Anmerkungen: Zugangsstatus: Freier Zugang