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Padmanaban, Munirathna; Romano, Andrew; Lin, Guanyang; Chiu, Simon; Timko, Allen; Houlihan, Frank; Rahman, Dalil; Dammel, Ralph R.; Turnquest, Karen; Rich, Georgia; Shuetter, Scott D.; Shedd, Timonthy A.; Nellis, Gregory A.

Responding to the Challenge: Materials Design for Immersion Lithography

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  • Medientyp: E-Artikel
  • Titel: Responding to the Challenge: Materials Design for Immersion Lithography
  • Beteiligte: Padmanaban, Munirathna; Romano, Andrew; Lin, Guanyang; Chiu, Simon; Timko, Allen; Houlihan, Frank; Rahman, Dalil; Dammel, Ralph R.; Turnquest, Karen; Rich, Georgia; Shuetter, Scott D.; Shedd, Timonthy A.; Nellis, Gregory A.
  • Erschienen: Technical Association of Photopolymers, Japan, 2006
  • Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology
  • Sprache: Englisch
  • DOI: 10.2494/photopolymer.19.555
  • ISSN: 0914-9244; 1349-6336
  • Schlagwörter: Materials Chemistry ; Organic Chemistry ; Polymers and Plastics
  • Entstehung:
  • Anmerkungen:
  • Zugangsstatus: Freier Zugang