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  1. Mathad, G. S. [HerausgeberIn]; Schwartz, G. C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Hess, Dennis W. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Symposium on Plasma Processing 7 1988 Atlanta, Ga

    Proceedings of the Seventh Symposium on Plasma Processing : [held in Atlanta, Ga., May 15 - 20, 1988]

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    Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1988

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 88,22

  2. Mathad, G. S. [HerausgeberIn]; Schwartz, G. C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Gottscho, R. A. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Symposium on Plasma Processing 6 1987 San Diego, Calif

    Proceedings of the Sixth Symposium on Plasma Processing : [held in San Diego, Ca., from Oct. 19 - 24, 1986]

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    Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1987

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 87,6

  3. Bindra, P. [HerausgeberIn]; Susko, R. A. [HerausgeberIn] ; Symposium on Packaging of Electronic Devices 1988 Atlanta, Ga, Electrochemical Society, Dielectrics and Insulation, Electrodeposition, and Electronics Divisions

    Proceedings of the Symposium on Packaging of Electronic Devices : [held at the Spring Meeting of the Electrochemical Society, May 17 - 18, 1988 in Atlanta, Georgia]

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    Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1989

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 89,3

  4. Mathad, G. S. [HerausgeberIn]; Schwartz, G. C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Smolinsky, G. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] ; Symposium on Plasma Processing 4 1983 San Francisco, Calif

    Proceedings of the Fourth Symposium on Plasma Processing : San Francisco, Calif., May 8 - 13, 1983

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    Pennington, NJ: Dielectrics and Insulation and Electronics Div., Electrochemical Soc., 1983

    Erschienen in: Electrochemical Society: Proceedings volume ; 83,10

  5. Griffiths, James E. [HerausgeberIn] ; SPIE, the International Society for Optical Engineering, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers

    Monitoring and control of plasma-enhanced processing of semiconductors : 1 - 2 November 1988, Santa Clara, Calif.

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    Bellingham, Wash., USA: SPIE, 1989

    Erschienen in: SPIE, The International Society for Optical Engineering: Proceedings ; 1037

  6. Institute of Electrical and Electronics Engineers

    IEEE conference record - abstracts / the 33rd IEEE International Conference on Plasma Science, 2006, ICOPS 2006 : [Acme, MI, 4 - 8 June 2006]

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    Piscataway, NJ: IEEE Operations Center, 2006

  7. Institution of Electrical Engineers Professional Group S3 (Electron Physics, Discharges and Applications), Institute of Physics (Great Britain)

    Measurements and plasmas : colloquium on Tuesday, 25 February 1997 at Savoy Place

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    London: Institution of Electrical Engineers, 1997

    Erschienen in: Ref ; 97/088

  8. IEEE International Conference on Plasma Science (17th :1990 :Oakland, Calif.), IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society

    IEEE conference record--abstracts : 1990 IEEE International Conference on Plasma Science, May 21-23, 1990, Hyatt Regency, Oakland, California

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    New York; [Piscataway, N.J.]: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 1990

  9. IEEE International Conference on Plasma Science (16th :1989 :Buffalo, N.Y.), Calspan Corporation, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society, State University of New York at Buffalo

    IEEE conference record--abstracts : 1989 IEEE International Conference on Plasma Science, May 22-24, 1989, Buffalo, New York

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    New York: Institute of Electrical and Electronics Engineers, 1989

  10. Institute of Electrical and Electronics Engineers

    Abstracts / IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS), 2013 : 16 - 21 June 2013, San Francisco, CA, USA ; [combined with the 19th IEEE Pulsed Power Conference (PPC) ; called IEEE Pulsed Power & Plasma Science Conference (PPPS 2013)]

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    Piscataway, NJ: IEEE, 2013

  11. Institute of Electrical and Electronics Engineers, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Plasma Science and Applications Committee

    Abstracts / IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS), 2012 : 8 - 13 July 2012, EICC, Edinburgh, Scotland

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    Piscataway, NJ: IEEE, 2012

  12. Institute of Electrical and Electronics Engineers, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Plasma Science and Applications Committee

    Abstracts / IEEE International Conference on Plasma Science, 2010 : 20 - 24 June 2010, Norfolk, Virginia, USA

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    Piscataway, NJ: IEEE, 2010

  13. Institute of Electrical and Electronics Engineers, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Plasma Science and Applications Committee, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Pulsed Power Science Technology Committee

    IEEE conference record - abstracts / 2007 IEEE International Conference on Plasma Science : 17 - 22 June 2007, Albuquerque, New Mexico, USA ; combined with the 16th IEEE International Pulsed Power Conference ; [called "Pulsed power and plasma science 2007 (PPPS-2007)]

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    Piscataway, NJ: IEEE Service Center, 2007

  14. Institute of Electrical and Electronics Engineers, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Plasma Science and Applications Committee

    IEEE conference record - abstracts / IEEE International Conference on Plasma Science, 2005 : ICOPS '05 ; 20 - 23 June 2005, Monterey, California

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    Piscataway, NJ: IEEE Operations Center, 2005

  15. IEEE International Conference on Plasma Science (31st :2004 :Baltimore, Md.), Asian Office of Aerospace Research and Development, Hanyang Taehakkyo, IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society Plasma Science and Aplications Committee

    ICOPS 2004 : IEEE conference record--abstracts: the 31st IEEE International Conference on Plasma Science : June 28-July 1, 2004, Baltimore, Maryland

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    Piscataway, N.J: IEEE, 2004