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  1. Haag, Jana [VerfasserIn] ; Technische Universität Dresden

    Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) von siliziumoxidhaltigen Haftvermittlerschichten auf Ti15V3Cr3Sn3Al- und Ti6Al4V-Legierungen bei Atmosphärendruck = Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of organosilicon films for adhesion promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V alloys at atmospheric pressure

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    2016