Zum Inhalt springen Dammel, Ralph R.; Pawlowski, Georg; Romano, Andrew; Hoolihan, Frank M.; Kim, Woo-Kyu; Sakmuri, Raj; Abdallah, David; Padmanaban, Murirathna; Rahman, M. Dalil; McKenzie, Douglas Leaching Phenomena and their Suppresion in 193 nm Immersion Lithography Aufsätze Online ansehen Schließen > Zugang Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Technical Association of Photopolymers, Japan, 2005 Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology Conley, Will; LeSuer, Robert J.; Fan, Frank F.; Bard, Allen J.; Taylor, Chris; Tsiartas, Pavlos; Willson, Grant; Romano, Andrew; Dammel, Ralph Understanding the photoresist surface-liquid interface for ArF immersion lithography Konferenzberichte Online ansehen Schließen > Zugang Zugang zur Ressource (via DOI) Zeige weitere weniger zeigen Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. SPIE, 2005 Erschienen in: SPIE Proceedings Padmanaban, Munirathna; Romano, Andrew; Lin, Guanyang; Chiu, Simon; Timko, Allen; Houlihan, Frank; Rahman, Dalil; Chakrapani, S.; Kudo, T.; Dammel, Ralph R.; Turnquest, Karen; Rich, Georgia; Schuetter, Scott D.; Shedd, Timothy A.; Nellis, Gregory F. Performance of a dry 193nm resist under wet conditions Konferenzberichte Online ansehen Schließen > Zugang Zugang zur Ressource (via DOI) Zeige weitere weniger zeigen Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. SPIE, 2006 Erschienen in: SPIE Proceedings Padmanaban, Munirathna; Romano, Andrew; Lin, Guanyang; Chiu, Simon; Timko, Allen; Houlihan, Frank; Rahman, Dalil; Dammel, Ralph R.; Turnquest, Karen; Rich, Georgia; Shuetter, Scott D.; Shedd, Timonthy A.; Nellis, Gregory A. Responding to the Challenge: Materials Design for Immersion Lithography Aufsätze Online ansehen Schließen > Zugang Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Technical Association of Photopolymers, Japan, 2006 Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology
Dammel, Ralph R.; Pawlowski, Georg; Romano, Andrew; Hoolihan, Frank M.; Kim, Woo-Kyu; Sakmuri, Raj; Abdallah, David; Padmanaban, Murirathna; Rahman, M. Dalil; McKenzie, Douglas Leaching Phenomena and their Suppresion in 193 nm Immersion Lithography Aufsätze Online ansehen Schließen > Zugang Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. Technical Association of Photopolymers, Japan, 2005 Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology
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Conley, Will; LeSuer, Robert J.; Fan, Frank F.; Bard, Allen J.; Taylor, Chris; Tsiartas, Pavlos; Willson, Grant; Romano, Andrew; Dammel, Ralph Understanding the photoresist surface-liquid interface for ArF immersion lithography Konferenzberichte Online ansehen Schließen > Zugang Zugang zur Ressource (via DOI) Zeige weitere weniger zeigen Schließen > Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein. SPIE, 2005 Erschienen in: SPIE Proceedings
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> Medientyp Skip to next facet Aufsätze (15) Wert ausschließen Konferenzberichte (5) Wert ausschließen Bücher (4) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Verfügbarkeit Skip to next facet Freihand verfügbar (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Standort Skip to next facet Bereichsbibliothek DrePunct (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Zugangsstatus Skip to next facet Freier Zugang (15) Wert ausschließen Ohne Angabe (8) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Sprache Skip to next facet Englisch (15) Wert ausschließen Nicht zu entscheiden (7) Wert ausschließen Deutsch (2) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Fachgebiet Skip to next facet Chemie und Pharmazie (6) Wert ausschließen Physik (6) Wert ausschließen Technik (4) Wert ausschließen Allgemeines (3) Wert ausschließen Geographie (1) Wert ausschließen Mathematik (1) Wert ausschließen Wirtschaftswissenschaften (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Person/Institution Skip to next facet Dammel, Frank (16) Wert ausschließen Stephan, Peter (15) Wert ausschließen Romano, Andrew (6) Wert ausschließen Dammel, Ralph R. (5) Wert ausschließen Houlihan, Frank (4) Wert ausschließen Lin, Guanyang (4) Wert ausschließen Oltmanns, Johannes (4) Wert ausschließen Padmanaban, Munirathna (4) Wert ausschließen Timko, Allen (4) Wert ausschließen Chiu, Simon (3) Wert ausschließen Dammel, Ralph (3) Wert ausschließen Rahman, Dalil (3) Wert ausschließen Rentkiewicz, David (3) Wert ausschließen Abdallah, David (2) Wert ausschließen Anyadiegwu, Clement (2) Wert ausschließen Dietrich, Axel (2) Wert ausschließen Houlihan, Frank M. (2) Wert ausschließen Kim, Woo-Kyu (2) Wert ausschließen Koksharov, Josefine (2) Wert ausschließen Kudo, Takanori (2) Wert ausschließen Kuhn, Christoph (2) Wert ausschließen Lin, Guiping (2) Wert ausschließen McKenzie, Douglas (2) Wert ausschließen Neumann, Jannik (2) Wert ausschließen Pawlowski, Georg (2) Wert ausschließen Rahman, M. Dalil (2) Wert ausschließen Rao, Yu (2) Wert ausschließen Rich, Georgia (2) Wert ausschließen Sakamuri, Raj (2) Wert ausschließen Sauerwein, David (2) Wert ausschließen Turnquest, Karen (2) Wert ausschließen Bard, Allen J. (1) Wert ausschließen Bartenschlager, Heike (1) Wert ausschließen Biafore, John (1) Wert ausschließen Bodner, Jonas (1) Wert ausschließen Chakrapani, S. (1) Wert ausschließen Chakrapani, Srivanisan (1) Wert ausschließen Conley, Will (1) Wert ausschließen Corbean, Elisa (1) Wert ausschließen Debiagi, Paulo (1) Wert ausschließen Eicke, Julia (1) Wert ausschließen Eugster, Patrick (1) Wert ausschließen Falk, Paul Michael (1) Wert ausschließen Fan, Frank F. (1) Wert ausschließen Feike, Frederik (1) Wert ausschließen Fitzgerald, Niall (1) Wert ausschließen Freystein, Martin (1) Wert ausschließen Friedrich, Pascal (1) Wert ausschließen Hanson, Jutta (1) Wert ausschließen Hasse, Christian (1) Wert ausschließen Hoolihan, Frank M. (1) Wert ausschließen Kudo, T. (1) Wert ausschließen Kumar, Seema (1) Wert ausschließen LeSuer, Robert J. (1) Wert ausschließen Lee, Dongkwan (1) Wert ausschließen Maihöfner, Dominik (1) Wert ausschließen Mckenzie, Douglas (1) Wert ausschließen Nellis, Gregory A. (1) Wert ausschließen Nellis, Gregory F. (1) Wert ausschließen Padmanaban, Murirathna (1) Wert ausschließen Plößer, Tim (1) Wert ausschließen Sakmuri, Raj (1) Wert ausschließen Scholtissek, Arne (1) Wert ausschließen Schuetter, Scott D. (1) Wert ausschließen Schulze, Johanna (1) Wert ausschließen Shedd, Timonthy A. (1) Wert ausschließen Shedd, Timothy A. (1) Wert ausschließen Shuetter, Scott D. (1) Wert ausschließen Stein, Theresia vom (1) Wert ausschließen Taylor, Chris (1) Wert ausschließen Technische Universität Darmstadt Fachgebiet Elektrische Energieversorgung unter Einsatz Erneuerbarer Energien (1) Wert ausschließen Tsiartas, Pavlos (1) Wert ausschließen Ulbrich, Stefan (1) Wert ausschließen Willson, Grant (1) Wert ausschließen Zendel, Lauritz (1) Wert ausschließen da Rocha, Rodolfo Cavaliere (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen
> Kollektion Skip to next facet SPIE (CrossRef) (5) Wert ausschließen Verbunddaten SWB (4) Wert ausschließen Elsevier BV (CrossRef) (3) Wert ausschließen Lizenzfreie Online-Ressourcen (3) Wert ausschließen Technical Association of Photopolymers, Japan (CrossRef) (3) Wert ausschließen Wiley (CrossRef) (3) Wert ausschließen International Centre for Applied Thermodynamics (ICAT) (CrossRef) (2) Wert ausschließen Springer Science and Business Media LLC (CrossRef) (2) Wert ausschließen ASME International (CrossRef) (1) Wert ausschließen MDPI AG (CrossRef) (1) Wert ausschließen zeige weitere weniger zeigen