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  2. Yurchuk, Ekaterina [VerfasserIn] ; Mikolajick, Thomas [AkademischeR BetreuerIn]; Dörr, Kathrin [AkademischeR BetreuerIn]

    Electrical Characterisation of Ferroelectric Field Effect Transistors based on Ferroelectric HfO2 Thin Films

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    Dresden: Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden; Dresden: Technische Universität Dresden, 2015

    Erschienen in: Research at NaMLab

  3. Yurchuk, Ekaterina [VerfasserIn] ; Mikolajick, Thomas [AkademischeR BetreuerIn]; Mikolajick, Thomas [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Dörr, Kathrin [AkademischeR BetreuerIn] Technische Universität Dresden

    Electrical Characterisation of Ferroelectric Field Effect Transistors based on Ferroelectric HfO2 Thin Films

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    Dresden: Saechsische Landesbibliothek- Staats- und Universitaetsbibliothek Dresden, 2015 ; Dresden: Technische Universität Dresden, 2015

  4. Yurchuk, Ekaterina; Muller, Johannes; Muller, Stefan; Paul, Jan; Pesic, Milan; van Bentum, Ralf; Schroeder, Uwe; Mikolajick, Thomas

    Charge-Trapping Phenomena in HfO2-Based FeFET-Type Nonvolatile Memories

    Aufsätze
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    Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2016

    Erschienen in: IEEE Transactions on Electron Devices

  6. Mikolajick, Thomas; Müller, Stefan; Schenk, Tony; Yurchuk, Ekaterina; Slesazeck, Stefan; Schröder, Uwe; Flachowsky, Stefan; van Bentum, Ralf; Kolodinski, Sabine; Polakowski, Patrick; Müller, Johannes

    Doped Hafnium Oxide – An Enabler for Ferroelectric Field Effect Transistors

    Konferenzberichte
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    Trans Tech Publications Ltd, 2014

    Erschienen in: 6th Forum on New Materials - Part C

  7. Martin, Dominik; Müller, Johannes; Schenk, Tony; Arruda, Thomas M.; Kumar, Amit; Strelcov, Evgheni; Yurchuk, Ekaterina; Müller, Stefan; Pohl, Darius; Schröder, Uwe; Kalinin, Sergei V.; Mikolajick, Thomas

    Ferroelectricity in Si‐Doped HfO2 Revealed: A Binary Lead‐Free Ferroelectric

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    Wiley, 2014

    Erschienen in: Advanced Materials

  8. Schroeder, Uwe; Yurchuk, Ekaterina; Müller, Johannes; Martin, Dominik; Schenk, Tony; Polakowski, Patrick; Adelmann, Christoph; Popovici, Mihaela I.; Kalinin, Sergei V.; Mikolajick, Thomas

    Impact of different dopants on the switching properties of ferroelectric hafniumoxide

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    IOP Publishing, 2014

    Erschienen in: Japanese Journal of Applied Physics

  9. Yurchuk, Ekaterina; Muller, Johannes; Paul, Jan; Schlosser, Till; Martin, Dominik; Hoffmann, Raik; Mueller, Stefan; Slesazeck, Stefan; Schroeder, Uwe; Boschke, Roman; van Bentum, Ralf; Mikolajick, Thomas

    Impact of Scaling on the Performance of HfO2-Based Ferroelectric Field Effect Transistors

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    Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2014

    Erschienen in: IEEE Transactions on Electron Devices

  10. Martin, Dominik; Yurchuk, Ekaterina; Müller, Stefan; Müller, Johannes; Paul, Jan; Sundquist, Jonas; Slesazeck, Stefan; Schlösser, Till; van Bentum, Ralf; Trentzsch, Martin; Schröder, Uwe; Mikolajick, Thomas

    Downscaling ferroelectric field effect transistors by using ferroelectric Si-doped HfO2

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    Elsevier BV, 2013

    Erschienen in: Solid-State Electronics

  11. Mueller, Stefan; Muller, Johannes; Hoffmann, Raik; Yurchuk, Ekaterina; Schlosser, Till; Boschke, Roman; Paul, Jan; Goldbach, Matthias; Herrmann, Tom; Zaka, Alban; Schroder, Uwe; Mikolajick, Thomas

    From MFM Capacitors Toward Ferroelectric Transistors: Endurance and Disturb Characteristics of ${\rm HfO}_{2}$-Based FeFET Devices

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    Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2013

    Erschienen in: IEEE Transactions on Electron Devices