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  3. Dhakal, Dileep [VerfasserIn]

    Growth monitoring of ultrathin copper and copper oxide films deposited by atomic layer deposition = Untersuchungen zum Wachstum ultradünner Kupfer- und Kupferoxid Schichten mittels Atomlagenabscheidung

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    Chemnitz, [2016]

  4. Wächtler, Thomas [VerfasserIn]

    Thin films of Copper oxide and Copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices = Dünne Schichten von Kupferoxid und Kupfer hergestellt mittels Atomlagenabscheidung zur Anwendung in Metallisierungssystemen mikroelektronischer Bauelemente

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    Chemnitz: Universitätsverlag Chemnitz, 2010

  6. Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; Roth, Nina [VerfasserIn]; Mothes, Robert [VerfasserIn]; Schulze, Steffen [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Hietschold, Michael [VerfasserIn]

    Copper Oxide ALD from a Cu(I) <beta>-Diketonate: Detailed Growth Studies on SiO2 and TaN

    Aufsätze
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    Chemnitz: Technische Universität Chemnitz, [2009] ; Chemnitz: Fraunhofer ENAS, [2009] ; Chemnitz: The Electrochemical Society, Inc., [2009]

  7. Mahmoodinezhad, Ali [VerfasserIn] ; Flege, Jan Ingo [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Wollschläger, Joachim [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Wenger, Christian [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Atomic layer deposition and characterization of metal oxide thin films

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    Cottbus: BTU Cottbus - Senftenberg, 2022

  8. Waechtler, Thomas [VerfasserIn]; Schulze, Steffen [VerfasserIn]; Hofmann, Lutz [VerfasserIn]; Hermann, Sascha [VerfasserIn]; Roth, Nina [VerfasserIn]; Schulz, Stefan E. [VerfasserIn]; Gessner, Thomas [VerfasserIn]; Lang, Heinrich [VerfasserIn]; Hietschold, Michael [VerfasserIn]

    Detailed Study of Copper Oxide ALD on SiO2, TaN, and Ru

    Sonstige
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    Chemnitz: Technische Universität Chemnitz, [2009] ; Chemnitz: Fraunhofer ENAS, [2009] ; Chemnitz: American Vacuum Society (AVS), [2009]

  9. Wächtler, Thomas [VerfasserIn]

    Thin films of copper oxide and copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices = Dünne Schichten von Kupferoxid und Kupfer hergestellt mittels Atomlagenabscheidung zur Anwendung in Metallisierungssystemen mikroelektronischer Bauelemente

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  10. Pousaneh, Elaheh [VerfasserIn] ; Lang, Heinrich [AkademischeR BetreuerIn]; Lang, Heinrich [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Armbrüster, Marc [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Synthesis and Characterization of Metal Complexes for Thin Film Formation via Spin-Coating or Chemical Vapor Deposition

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    Chemnitz: Technische Universität Chemnitz, 2020