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Zusammenfassung In der vorliegenden Arbeit werden zwei Nanopositioniersysteme in Bezug aufihre Positioniergenauigkeit während der Bewegung verglichen. BeideSysteme besitzen einen planaren Bewegungsbereich von ≥ 100 mm, werdendurch Linearmotoren angetrieben und die Position wird durchLaserinterferometer gemessen. Große Unterschiede existieren jedoch immechanischen Aufbau. Das erste Positioniersystem ist ein zweiachsigerDemonstrator dessen zwei Läufer auf Wälzkörpern gelagert sind.Dies führt zu dem Problem der besonders im Nanometerbereich starknichtlinearen Reibung. Bei dem zweiten Positioniersystem kommen Luftlagerzum Einsatz und darüber hinaus handelt es sich nur um einen Läufer,welcher drei Freiheitsgrade besitzt. Es wird gezeigt, dass durchregelungstechnische Methoden der Reibkraftkompensation diePositioniergenauigkeit beider Systeme bis zu einer Geschwindigkeit von ca.1 mm/s vergleichbar ist.