Beschreibung:
<jats:title>Zusammenfassung</jats:title>
<jats:p>In der vorliegenden Arbeit werden zwei Nanopositioniersysteme in Bezug auf
ihre Positioniergenauigkeit während der Bewegung verglichen. Beide
Systeme besitzen einen planaren Bewegungsbereich von ≥ 100 mm, werden
durch Linearmotoren angetrieben und die Position wird durch
Laserinterferometer gemessen. Große Unterschiede existieren jedoch im
mechanischen Aufbau. Das erste Positioniersystem ist ein zweiachsiger
Demonstrator dessen zwei Läufer auf Wälzkörpern gelagert sind.
Dies führt zu dem Problem der besonders im Nanometerbereich stark
nichtlinearen Reibung. Bei dem zweiten Positioniersystem kommen Luftlager
zum Einsatz und darüber hinaus handelt es sich nur um einen Läufer,
welcher drei Freiheitsgrade besitzt. Es wird gezeigt, dass durch
regelungstechnische Methoden der Reibkraftkompensation die
Positioniergenauigkeit beider Systeme bis zu einer Geschwindigkeit von ca.
1 mm/s vergleichbar ist.</jats:p>