Eigenschaften und Technologien von laserrekristallisierten Siliziumdünnschichtbauelementen

Medientyp: Buch; Hochschulschrift
Titel: Eigenschaften und Technologien von laserrekristallisierten Siliziumdünnschichtbauelementen
Weitere Titel: Nebent.: Dünnschichtbauelemente
Enthält: Literaturverz. S. 136 - 150

Beteiligte: Weissel, Ralph [Verfasser:in]; Müller, Jörg [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Paul, Reinhold [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]
Körperschaft: Technische Universität Hamburg-Harburg, Arbeitsbereich Halbleitertechnologie
Erschienen: Düsseldorf: VDI-Verl., 1987
Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 9 ; 69
Ausgabe: Als Ms. gedr
Umfang: 201 S; 44 Ill. und graph. Darst; 21 cm
Sprache: Deutsch
ISBN: 3181469092
Schlagwörter: Silicium > Dünne Schicht > Polykristall > Rekristallisation > Argonlaser
Entstehung:
Hochschulschrift: Zugl.: Hamburg-Harburg, Techn. Univ., Arbeitsbereich Halbleitertechnologie, Diss., 1987
Anmerkungen: Richtiger Name des Verf.: Weißel, Ralph
Weitere Bestandsnachweise
0 : Fortschrittberichte VDI / 9

Eigenschaften und Technologien von laserrekristallisierten Siliziumdünnschichtbauelementen - [Als Ms. gedr]