Der Zusammenhang zwischen dem Hochrate-Depositionsprozeß und den strukturellen sowie photoelektrischen Eigenschaften von a-Si:H-Schichten für die Anwendung in Dünnschichtsolarzellen

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Medientyp: Buch; Hochschulschrift
Titel: Der Zusammenhang zwischen dem Hochrate-Depositionsprozeß und den strukturellen sowie photoelektrischen Eigenschaften von a-Si:H-Schichten für die Anwendung in Dünnschichtsolarzellen
Beteiligte: Alhallani, Basem [VerfasserIn]
Erschienen: 1996
Umfang: 128 S.; graph. Darst
Sprache: Deutsch
RVK-Notation: ZN 4150 : Dünnschichttechnologie
Schlagwörter: Hochschulschrift
Entstehung:
Hochschulschrift: Dresden, Techn. Univ., Diss., 1996
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