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Medientyp: Buch Titel: Chemical vapour deposition : Principles and applications Beteiligte: Hitchman, Michael L. [Hrsg.]; Jensen, Klavs F. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] Erschienen: London [u.a.]: Academic Pr., 1993 Umfang: V, 677 S.; graph. Darst; 23 cm Sprache: Englisch ISBN: 0123496705 RVK-Notation: VN 7260 : Allgemeines VE 9300 : Allgemeines UP 7550 : Herstellung dünner Schichten incl. Epitaxie-Schichten, Dünnschichttechnik Schlagwörter: CVD-Verfahren Entstehung: Anmerkungen: Includes bibliographical references and index