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Medientyp: E-Artikel Titel: Deep fused silica wet etching using an Au-free and stress-reduced sputter-deposited Cr hard mask Beteiligte: Steingoetter, Ingo; Fouckhardt, Henning Erschienen: IOP Publishing, 2005 Erschienen in: Journal of Micromechanics and Microengineering Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1088/0960-1317/15/11/019 ISSN: 0960-1317; 1361-6439 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Mechanical Engineering ; Mechanics of Materials ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: