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Medientyp: E-Artikel Titel: Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Ar/Cl2/CH4 Plasma Chemistry Beteiligte: Landesman, Jean-Pierre; Cassidy, Daniel T.; Fouchier, Marc; Pargon, Erwine; Levallois, Christophe; Mokhtari, Merwan; Jimenez, Juan; Torres, Alfredo Erschienen: Springer Science and Business Media LLC, 2018 Erschienen in: Journal of Electronic Materials Sprache: Englisch DOI: 10.1007/s11664-018-6152-6 ISSN: 0361-5235; 1543-186X Schlagwörter: Materials Chemistry ; Electrical and Electronic Engineering ; Condensed Matter Physics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: