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Medientyp: E-Artikel Titel: Diffusion of phosphorus in TaSi2 thin films II: Lattice and short-circuit diffusion in TaSi2/SiO2 Beteiligte: Pelleg, Joshua Erschienen: Elsevier BV, 1983 Erschienen in: Thin Solid Films Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0040-6090(83)90217-1 ISSN: 0040-6090 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Metals and Alloys ; Surfaces, Coatings and Films ; Surfaces and Interfaces ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: