> Merkliste Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.
Medientyp: E-Artikel Titel: X-ray diffraction peak profile analysis of TiNx films prepared on silicon by reactive ion beam assisted deposition Beteiligte: Scardi, P.; Kothari, D.C.; Guzman, L. Erschienen: Elsevier BV, 1991 Erschienen in: Thin Solid Films Sprache: Englisch DOI: 10.1016/0040-6090(91)90273-z ISSN: 0040-6090 Schlagwörter: Materials Chemistry ; Metals and Alloys ; Surfaces, Coatings and Films ; Surfaces and Interfaces ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: