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Medientyp: E-Artikel Titel: Experimental threshold voltage fluctuations of 30 nm-NMOS-transistors manufactured by a lithography independent structure definition process Beteiligte: Horstmann, John T.; Kallis, Klaus T.; Fiedler, Horst L. Erschienen: Elsevier BV, 2009 Erschienen in: Microelectronic Engineering Sprache: Englisch DOI: 10.1016/j.mee.2008.11.048 ISSN: 0167-9317 Schlagwörter: Electrical and Electronic Engineering ; Surfaces, Coatings and Films ; Condensed Matter Physics ; Atomic and Molecular Physics, and Optics ; Electronic, Optical and Magnetic Materials Entstehung: Anmerkungen: