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Medientyp: E-Artikel Titel: Low-temperature ICPECVD of silicon nitride in SiH4–NH3–Ar discharges analyzed by spectroscopic ellipsometry and etch behavior in KOH and BHF Beteiligte: Wolf, R; Wandel, K; Gruska, B Erschienen: Elsevier BV, 2001 Erschienen in: Surface and Coatings Technology, 142-144 (2001), Seite 786-791 Sprache: Englisch DOI: 10.1016/s0257-8972(01)01184-7 ISSN: 0257-8972 Entstehung: Anmerkungen: