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Medientyp: Elektronischer Konferenzbericht Titel: Spectroscopic Ellipsometry based Scatterometry enabling 193nm Litho and Etch process control for the 110nm technology node and beyond Beteiligte: Hingst, Thomas; Marschner, Thomas; Moert, Manfred; Homilius, Jan; Guevremont, Marco; Hopkins, John; Elazami, Assim Erschienen: SPIE, 2003 Erschienen in: SPIE Proceedings (2003) Umfang: Sprache: Nicht zu entscheiden DOI: 10.1117/12.485011 ISSN: 0277-786X Entstehung: Anmerkungen: