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Medientyp: E-Artikel Titel: Role of Bilayer Resist in 157 nm Lithography Beteiligte: Bowden, Murrae; Malik, Sanjay; Dilocker, Stephanie Erschienen: Technical Association of Photopolymers, Japan, 2003 Erschienen in: Journal of Photopolymer Science and Technology, 16 (2003) 4, Seite 629-636 Sprache: Englisch DOI: 10.2494/photopolymer.16.629 ISSN: 0914-9244; 1349-6336 Entstehung: Anmerkungen: Zugangsstatus: Freier Zugang