Zum Inhalt springen

  4. Jones, Anthony C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Hitchman, Michael L. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Ritala, Mikko [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Niinisto, Jaako [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Krumdieck, Susan [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Chalker, Paul [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Aspinall, Helen C. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Pemble, Martyn E. [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Gladfelter, W.L [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Leese, Barry [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]

    Chemical vapour deposition : Precursors, processes and applications

    Bücher
    Online ansehen
    Schließen
    Schließen

    Merkliste

    Sie können Bookmarks mittels Listen verwalten, loggen Sie sich dafür bitte in Ihr SLUB Benutzerkonto ein.

    Cambridge: Royal Society of Chemistry, 2008