Media type: Book Title: ITM-prozessierte CoSi 2 -Kontakte für großintegrierte CMOS-Schaltungen Contributor: Niewöhner, Ludwig [Author] imprint: Düsseldorf: VDI-Verl., 1991 Published in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 9 ; 122 Issue: Als Ms. gedr. Extent: 112 S.; Ill., graph. Darst Language: German ISBN: 3181422096 Keywords: CMOS > Silicide > Ionenimplantation > Source > Drain > Selbstjustierende Technik Origination: Footnote: Zugl.: Hannover, Univ., Fak. für Maschinenwesen, Diss., 1991
Departmental Library DrePunct – open access area Shelf-mark: ZN 1701-122 Item ID: 10065115 Status: Loanable