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  2. Scholze, Heidi [VerfasserIn] ; Boch, Jens [AkademischeR BetreuerIn]; Behrens, Sven-Erik [AkademischeR BetreuerIn]; Gatz, Christiane [AkademischeR BetreuerIn]

    DNA-Bindespezifität von TAL-Effektoren aus Xanthomonaden

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    Halle, Saale: Universitäts- und Landesbibliothek Sachsen-Anhalt, 2011

  3. Bittner, Sven [HerausgeberIn]; Hornbostel, Stefan [HerausgeberIn]; Scholze, Frank [HerausgeberIn] ; iFQ - Institut für Forschungsinformation und Qualitätssicherung

    Forschungsinformation in Deutschland: Anforderungen, Stand und Nutzen existierender Forschungsinformationssysteme: Workshop Forschungsinformationssysteme 2011

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    Berlin, 2012

    Erschienen in: iFQ-Working Paper ; Bd. 10

  5. Burger, Sven; Zschiedrich, Lin; Pomplun, Jan; Schmidt, Frank; Kato, Akiko; Laubis, Christian; Scholze, Frank

    Investigation of 3D patterns on EUV masks by means of scatterometry and comparison to numerical simulations

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    SPIE, 2011

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  6. Scholze, Frank; Laubis, Christian; Ulm, Gerhard; Dersch, Uwe; Pomplun, Jan; Burger, Sven; Schmidt, Frank

    Evaluation of EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks using rigorous FEM-simulation

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    SPIE, 2008

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  9. Scholze, Frank; Laubis, Christian; Dersch, Uwe; Pomplun, Jan; Burger, Sven; Schmidt, Frank

    The influence of line edge roughness and CD uniformity on EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks

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    SPIE, 2007

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  10. Scholze, Frank; Laubis, Christian; Buchholz, Christian; Fischer, Andreas; Kampe, Annett; Plöger, Sven; Scholz, Frank; Ulm, Gerhard

    Polarization dependence of multilayer reflectance in the EUV spectral range

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    SPIE, 2007

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  11. Scholze, Frank; Laubis, Christian; Buchholz, Christian; Fischer, Andreas; Plöger, Sven; Scholz, Frank; Ulm, Gerhard

    Polarization dependence of multilayer reflectance in the EUV spectral range

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    SPIE, 2006

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  12. Pomplun, Jan; Burger, Sven; Schmidt, Frank; Zschiedrich, Lin; Scholze, Frank; Laubis, Christian; Dersch, Uwe

    Rigorous FEM simulation of EUV masks: influence of shape and material parameters

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    SPIE, 2006

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  14. Soltwisch, Victor; Wernecke, Jan; Haase, Anton; Probst, Jürgen; Schoengen, Max; Krumrey, Michael; Scholze, Frank; Pomplun, Jan; Burger, Sven

    Determination of line profiles on nano-structured surfaces using EUV and x-ray scattering

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    SPIE, 2014

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  15. Bodermann, Bernd; Hansen, Poul-Erik; Burger, Sven; Henn, Mark-Alexander; Gross, Hermann; Bär, Markus; Scholze, Frank; Endres, Johannes; Wurm, Matthias

    First steps towards a scatterometry reference standard

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    SPIE, 2012

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  17. Laubis, Christian; Buchholz, Christian; Fischer, Andreas; Plöger, Sven; Scholz, Frank; Wagner, Heike; Scholze, Frank; Ulm, Gerhard; Enkisch, Hartmut; Müllender, Stephan; Wedowski, Marco; Louis, Eric; Zoethout, Erwin

    Characterization of large off-axis EUV mirrors with high accuracy reflectometry at PTB

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    SPIE, 2006

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  18. Bundesmann, Carsten; Eichhorn, Christoph; Scholze, Frank; Spemann, Daniel; Neumann, Horst; Pagano, Damiano; Scaranzin, Simone; Scortecci, Fabrizio; Leiter, Hans J.; Gauter, Sven; Wiese, Ruben; Kersten, Holger; Holste, Kristof; Köhler, Peter; Klar, Peter J.; Mazouffre, Stéphane; Blott, Richard; Bulit, Alexandra; Dannenmayer, Käthe

    An advanced electric propulsion diagnostic (AEPD) platform for in-situ characterization of electric propulsion thrusters and ion beam sources

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    Springer Science and Business Media LLC, 2016

    Erschienen in: The European Physical Journal D

  19. Agocs, Emil; Bodermann, Bernd; Burger, Sven; Dai, Gaoliang; Endres, Johannes; Hansen, Poul-Erik; Nielson, Lars; Madsen, Morten H.; Heidenreich, Sebastian; Krumrey, Michael; Loechel, Bernd; Probst, Juergen; Scholze, Frank; Soltwisch, Victor; Wurm, Matthias

    Scatterometry reference standards to improve tool matching and traceability in lithographical nanomanufacturing

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    SPIE, 2015

    Erschienen in: SPIE Proceedings

  20. Feigl, Torsten; Perske, Marco; Pauer, Hagen; Fiedler, Tobias; Zeitner, Uwe; Leitel, Robert; Eckstein, Hans-Christoph; Schleicher, Philipp; Schröder, Sven; Trost, Marcus; Risse, Stefan; Steinkopf, Ralf; Scholze, Frank; Laubis, Christian

    Sub-aperture EUV collector with dual-wavelength spectral purity filter

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    SPIE, 2015

    Erschienen in: SPIE Proceedings