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Bieder, Andrea [VerfasserIn]

PECVD of SiOX films from oxygen and hexamethyldisiloxane in a double source reactor

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2006 ; Mikrofiche-Ausg.
Crummenauer, Jürgen [VerfasserIn]; Stock, H.-R [VerfasserIn]

Plasma-CVD-Beschichtung : Vorhaben Nr. 110; Plasma-CVD-Beschichtung bei tiefen Temperaturen; Abschlußbericht

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Frankfurt/M: Forschungskuratorium Maschinenbau, 1991

Erschienen in: Forschungskuratorium Maschinenbau: Forschungshefte / Forschungskuratorium Maschinenbau ; 159
Bezzaoui, Hocine [VerfasserIn]

Integrierte Optik und Mikromechanik auf Silizium - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verlag, 1993

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 9 ; 163
Göbel, Thomas [VerfasserIn]

Thermomechanisches Verhalten von mittels PACVD abgeschiedenen (Ti,Al)N-Schichten auf WC-6%Co

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2002
Grüger, Heinrich [VerfasserIn]

Plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung von Kohlenstoffnitridschichten

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1999
Tews, René [VerfasserIn]

PECVD mit alternativen Dotanden für die Herstellung von Silizium-Dünnschichtbauelementen

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1998
Weichart, Jürgen [VerfasserIn] ; Müller, Jörg [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Peinemann, Klaus-Viktor [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] Technische Universität Hamburg-Harburg Arbeitsbereich Halbleitertechnologie

Herstellung und Charakterisierung von Plasmapolymer-Schichten für die Stofftrennung - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 1992

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 3 ; 290
Peters, Dethard [VerfasserIn] ; Müller, Jörg [Sonstige Person, Familie und Körperschaft]; Brinkmeyer, Ernst [Sonstige Person, Familie und Körperschaft] Technische Universität Hamburg-Harburg Arbeitsbereich Halbleitertechnologie

Herstellung und Untersuchung von PECVD-Siliziumoxinitridschichten für die integrierte Optik - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 1991

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschritt-Berichte VDI ; 180
Altmannshofer, Stephan [VerfasserIn]

Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie

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Stuttgart: Fraunhofer Verlag, [2019]
Pötschick, Pierre [VerfasserIn]

Magnetron-aktivierte plasmachemische Dampfphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen wasserstoffhaltigen Siliziumschichten

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Dresden: TUDpress, Verl. der Wiss., 2015

Erschienen in: Dresdner Beiträge zur Sensorik ; 57
Strobel, Carsten [VerfasserIn]

Dynamische plasmaunterstützte Gasphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen Silizium-Dünnschichtsolarzellen mittels linearer Höchstfrequenz-Plasmaquellen - [1. Aufl.]

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Berlin: Pro Business, 2013
Reuter, Danny [VerfasserIn]

Entwicklung einer Dünnschichtverkappungstechnologie für oberflächennahe Mikrostrukturen

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Chemnitz: Universitätsverlag Chemnitz, 2009
Karches, Martin Josef [VerfasserIn]

Plasma chemical vapor deposition of thin metal oxide films on particles in the riser of a circulating fluidized bed - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 2002

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 3 ; 719
Dimer, Martin [VerfasserIn]

Plasmaaktivierte Abscheidung harter amorpher Kohlenwasserstoff-Schichten bei verschiedenen Anregungsfrequenzen - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 2002

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 5 ; 65100
Prange, Robert [VerfasserIn]

Abscheidung metastabiler Ti 1-x Al x N-Schichten nach dem plasmagestützten CVD-Verfahren - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 2000

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 5 ; 57600
Faßbender, Frank H. [VerfasserIn]

Erhöhung der Beständigkeit von Sensorchips gegen Elektrolytkontakt durch Passivierungsschichten mit verbesserter Barrierewirkung

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Aachen: Shaker, 2000

Erschienen in: Berichte aus der Chemie
Grabosch, Günter [VerfasserIn]

Herstellung und Charakterisierung von PECVD abgeschiedenem mikrokristallinem Silizium

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2000
Nesládek, Pavel [VerfasserIn]

Superharte nanokristalline Kompositmaterialien auf der Basis von TiN

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2000
Breme, Frank [VerfasserIn]

Beschichtung von Kunststoffen mit titan- und tantalhaltigen Materialien durch plasmaaktivierte chemische Gasphasenabscheidung

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1999
Hellmich, Anke [VerfasserIn]

PECVD-Prozesse mittels Hohlkathodenglimmentladung - [Als Ms. gedr.]

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Düsseldorf: VDI-Verl., 1997

Erschienen in: Verein Deutscher Ingenieure: Fortschrittberichte VDI / 3 ; 507

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